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FeSiB薄帯の応力印加下での磁気特性

FeSiB薄帯の応力印加下での磁気特性

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-130

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Magnetic properties of FeSiB ribbon under stress

著者名: 名 生崇悦(仙台高等専門学校専攻科),山田 洋(仙台高等専門学校),枦 修一郎(東北大学),石山 和志(東北大学),北村 康宏(デンソー),鈴木 拓(デンソー)

著者名(英語): Shuetsu Myou(Sendai National College of Technology),Hiroshi Yamada(Sendai National College of Technology),Shuichiro Hashi(Tohoku University),Kazushi Ishiyama(Tohoku University),Yasuhiro Kitamura(DENSO),Taku Suzuki(DENSO)

キーワード: 磁歪|磁気異方性|磁束密度

要約(日本語): 磁歪が大きく比較的透磁率の高いFeSiB薄帯材料は、外部応力により誘導される異方性によりその磁気特性が大きく変化する。応力と磁気特性変化に関する詳細な実験結果を通じて、センサ応用をはじめとするこの材料のデバイス応用に関して議論する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 246 Kバイト

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