酸化銅含有ガス感応膜の反応性スパッタリング法による形成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-096

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Preparation of Gas Sensitive Membranes Including Copper Oxide by Reactive Sputtering Method

著者名: 阿部 泰(山形県工業技術センター),矢作 徹(山形県工業技術センター),岩松 新之輔(山形県工業技術センター),小林 誠也(山形県工業技術センター)

著者名(英語): Yutaka Abe(Yamagata Research Institute of Technology),Toru Yahagi(Yamagata Research Institute of Technology),Shinnosuke Iwamatsu(Yamagata Research Institute of Technology),Seiya Kobayashi(Yamagata Research Institute of Technology)

キーワード: 反応性スパッタ|ガスセンサ

要約(日本語): 半導体式ガスセンサは、酸化物半導体をガス感応膜とし、周囲環境変化に伴う酸化物半導体のインピーダンス変化によりガスを検知するセンサであるが、ガス感応膜となる酸化物半導体の形成は焼結や熱酸化等のMEMSへの適合性が高くないプロセスが用いられている。ガス感応膜である酸化物を反応性スパッタリング法により形成することができれば、より柔軟なMEMSプロセスを適用することが可能になる。一方で、酸化銅を含有する酸化物が二酸化炭素に対する感度を有することが知られているため、反応性スパッタリング法によりガス感応膜を形成した。その作製と二酸化炭素感度について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 266 Kバイト