異方性エッチングによる尖鋭・小断面積シリコン神経プローブの作製と評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-111

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Design and Fabrication of Si Neural Probe with Sharpened Tip Using Si Anisotropic Chemical Etching

著者名: 原島 卓也(東北大学),川原 岬(東北大学),木野 久志(東北大学),Minna Kellomaki(Tampere University of Technology),Jari Hyttinen(Tampere University of Technology),田中 徹(東北大学)

著者名(英語): Takuya Harashima(Tohoku University),Misaki Kawahara(Tohoku University),Hisashi Kino(Tohoku University),Minna Kellomaki(Tampere University of Technology),Jari Hyttinen(Tampere University of Technology),Tetsu Tanaka(Tohoku University)

キーワード: 神経プローブ

要約(日本語): Si神経プローブは光導波路、マイクロ流路、電気回路との組み合わせが容易な為、広い用途で使用されている。しかし、Si神経プローブを脳に刺入する際に血管や他の生体組織が損傷して神経プローブの電極から記録される信号の質が低下する問題が指摘されている。今回、我々はSiの異方性エッチングを利用することで神経プローブを尖鋭・小断面積化した。作製した神経プローブのインピーダンス特性を調べたところ、1000 Hz時のインピーダンスが6.4×105 |Z|Ωとニューロンの活動電位を取得するのに適した電気特性であることを確認した。講演では神経プローブの刺入特性と生物実験の結果について述べる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 236 Kバイト