PLD法を用いSi基板上に成膜した等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-146

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル(英語): Properties of PLD-fabricated isotropic Nd-Fe-B thick film magnets deposited on Si substrates

著者名: 山下 昂洋(長崎大学),押領司 学(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学),藤井 泰久(KRI)

著者名(英語): Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Manabu Oryoshi(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University),Yasuhisa Fujii(KRI,Inc.)

キーワード: PLD|Nd-Fe-B|Si|MEMS

要約(日本語): 着磁数の自由度に利点を有する「等方性厚膜磁石」は，膜面内方向より外部に取り出す磁界を利用した、ミリサイズモータや摩擦駆動型モータやMEMSへの応用が報告されている。本研究では，エネジ―ハーベストデバイスへの応用を鑑み，PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い「ターゲットのNd含有量」を変化させる事により，試料の剥離を抑制し、Si基板上に等方性Nd-Fe-B系磁石膜を直接成膜することができ、保磁力を中心にその磁気特性を評価したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 236 Kバイト