H2O, CF3I, CHF3, SiF4の電子衝突断面積

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-S3-1

グループ名: 【全国大会】平成26年電気学会全国大会論文集

発行日: 2014/03/05

タイトル：H₂O, CF₃I, CHF₃, SiF₄の電子衝突断面積

著者名: 佐藤孝紀 (室蘭工業大学),川口 悟 (室蘭工業大学),三田隆義 (室蘭工業大学)

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 352 Kバイト