窒素イオン照射を用いたPTFEの表面改質－剥離強度の変化における結晶化度の検討－

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-155

グループ名: 【全国大会】平成27年電気学会全国大会論文集

発行日: 2015/03/05

タイトル(英語): Modification of PTFE by Nitrogen Ion Irradiation -Verification of Degree of crystallinity on change of peel-strength-

著者名: 生田 海都(東京都市大学),岩尾 徹(東京都市大学),湯本 雅恵(東京都市大学)

著者名(英語): Kaito Ikuta(Tokyo City University),Toru Iwao(Tokyo City University),Motoshige Yumoto(Tokyo City University)

キーワード: 放電|プラズマ|イオン照射|PTFE|結晶化度

要約(日本語): プリント基板材料として，低誘電率など優れた電気的特性を持つテフロンが注目されている。しかし，テフロンは剥離強度が乏しく，その向上を目的とした表面改質が必要となる。一般に剥離強度は，極性基の導入や凹凸形成など表面特性の変化によって向上する。これまでに，数百から数千eVの窒素イオン照射が施され，照射エネルギーおよび照射量の増加に伴う剥離強度の向上が認められた。しかし，照射を前提とした場合，いずれの条件もテフロンの内側での破壊であることが確認された。一般に，高分子材料の強度に影響する一要因として結晶化度がある。そこで著者らは，イオン照射の前後および剥離後のテフロンの結晶化度の変化について検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 333 Kバイト