マイクロストリップ型プローブによる極薄膜透磁率計測

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-134

グループ名: 【全国大会】平成27年電気学会全国大会論文集

発行日: 2015/03/05

タイトル(英語): Permeability measurement of magnetic thin film by microstrip probe

著者名: 楠 洸介(仙台高等専門学校),薮上 信(東北学院大学),小澤 哲也(東北学院大学),植竹 宏明(東北学院大学),山田 洋(仙台高等専門学校),宮澤 安範(東栄科学産業),内海 良一(東栄科学産業),島田 寛(東北大学)

著者名(英語): Kosuke Kusunoki(Sendai National College of Technology),Shin Yabukami(Tohoku Gakuin University),Tetsuya Ozawa(Tohoku Gakuin University),Hiroaki Uetake(Tohoku Gakuin University),Hiroshi Yamada(Sendai National College of Technology),Yasunori Miyazawa(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Ryoichi Utsumi(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Yutaka Shimada(Tohoku University)

キーワード: マイクロストリッププローブ|磁性薄膜|高周波デバイス

要約(日本語): インピーダンス整合を考慮したマイクロストリップ型プローブを磁性薄膜に近接させることで非破壊に数nm厚の極薄膜の透磁率の測定を試みた。透過係数を用いてインピーダンスを算出する。膜厚方向へ電流が表皮効果で偏ることでインピーダンスZsが決定されることを仮定しNewton-Raphson法により、複素透磁率を最適化する。強磁性共鳴の周波数付近を含めて、LLG方程式と渦電流を考慮した理論値及び測定値は約 7 GHzまで概ね一致し、極薄膜の透磁率を測定出来ていることが確認できる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 451 Kバイト