パルス変調マイクロ波大気圧非熱平衡プラズマジェットによるレジスト膜除去速度のHe/O2ガス混合量依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-095

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル：パルス変調マイクロ波大気圧非熱平衡プラズマジェットによるレジスト膜除去速度のHe/O₂ガス混合量依存性

タイトル(英語): Dependence of Photoresist Removal Rate on He/O₂ Gas Mixture Ratio using Pulse Modulated Microwave-excited Atmospheric Pressure Plasma Jet

著者名: 大野 常久(金沢大学),東浦 峻太(金沢大学),今澤 優子(金沢大学),猪俣 尚則(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),川江 健(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Tsunehisa Ono(Kanazawa University),Syunta Higashiura(Kanazawa University),Yuko Imazawa(Kanazawa University),Takanori Inomata(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Takeshi Kawae(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University)

キーワード: プラズマ,マイクロ波,レジスト

要約(日本語): 大気圧非熱平衡プラズマは，低温環境下かつ大気圧下で化学反応性の高い活性種を生成可能な手法である．このため，材料の表面処理や医療応用など様々な応用研究がなされている．本研究では，パルス変調マイクロ波大気圧非熱平衡プラズマジェット(PM-MAPPJ) 生成の動作ガスをHe, He/O₂とし，O₂混合量がレジスト除去特性に及ぼす影響を調査した．結果として，O₂ガス混合量の増加に伴い，レジスト除去速度が増加する傾向にあることがわかった．特にHeガス3 slmに対し，O₂ガスを300 sccm混合した時のプラズマ照射位置中心でのレジスト除去速度は1.9 um/minであった．これはO₂ガスの混合により酸素由来の活性種が増加し，レジスト除去速度が増加したと考えられる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 247 Kバイト