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真空バルブ内の絶縁物‐シールド間距離が異なる場合における繰り返し交流電圧印加後の帯電分布推移

真空バルブ内の絶縁物‐シールド間距離が異なる場合における繰り返し交流電圧印加後の帯電分布推移

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-136

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Change of charge distribution inside vacuum bulb by repetitive AC voltage application ubder the different condition of the distance between insulator and shield

著者名: 福田 英昭(明電舎),石川 啓太(明電舎),山村 健太(明電舎),佐野 陽(明電舎),吉田 遼平(埼玉大学),山納 康(埼玉大学),山本 修(応用科学研究所)

著者名(英語): Fukuda Hideaki(MEIDENSHA CORPORATION),Ishikawa Keita(MEIDENSHA CORPORATION),Yamamura Kenta(MEIDENSHA CORPORATION),Sano Akira(MEIDENSHA CORPORATION),Yoshida Ryohei(Saitama University),Yamano Yasushi(Saitama University),Yamamoto Osamu(Research Institute for Applied Sciences)

キーワード: 真空,アルミナセラミックス,沿面放電,帯電,シールド,交流電圧

要約(日本語): 真空インタラプタ(VI)を設計する際には真空中沿面放電特性を把握しておくことが重要となり,絶縁物上が帯電することによって発生すると考えられている。今回,VIを模擬した電界緩和シールド付真空バルブに繰り返し交流電圧を印加し,シールドと絶縁物との隙間(Gap)が異なる場合における帯電分布の推移について調査した。結果より,Gapによらず繰り返し電圧を印加するとコンディショニングにより帯電量は減少する傾向が確認されたが,Gapの広い試料の方がその減少率は小さかった。またGapの狭い試料は繰り返し電圧を印加しても分布の様子は変化しなかったが,Gapの広い試料は分布の様子も変化した。これより,帯電をコントロールするにはGapを適切に選択する必要があることが明らかになった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 614 Kバイト

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