磁場-パルスプラズマ援用化学気相成長法により作製した環境セル型透過電子顕微鏡用a-SiCN隔膜への窒素プラズマ照射効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-176

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Nitrogen Plasma Irradiation Effect of a-SiCN Diaphragm for Environmental-cell Transmission Microscope Prepared by Magnetic Field and Pulse Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition Method

著者名: 松谷 貴臣(近畿大学),村野 正典(近畿大学),山﨑 佳代(近畿大学),川﨑 忠寛(ファインセラミックスセンター)

著者名(英語): Takaomi Matsutani(Kindai Univiersity),Masanori Murano(Kindai Univiersity),Kayo Yamasaki(Kindai Univiersity),Tadahiro Kawasaki(Japan fine ceramics center)

キーワード: 磁場-パルスプラズマ援用化学気相成長法,a-SiCN,環境セル,透過型電子顕微鏡,窒素プラズマ

要約(日本語): 本研究では、雰囲気ガス中における微細領域の観察が可能な環境セル型透過電子顕微鏡の隔膜用材料としてa-SiCNに着目し、磁場-パルスプラズマ援用化学気相成長によりその開発を行っている。隔膜に必要な条件として、極薄膜のアモルファス（振幅像・位相像ともに透明）であり、ガス圧に耐える高強度性が挙げられる。本手法は、低温での連続膜の作製には優れているが、ダストプラズマによる微粒子の形成や連続膜を得るため膜厚が若干厚くなる（~100 nm）という問題があった。今回、a-SiCN隔膜形成後、窒素プラズマを照射することで、微粒子の除去、耐圧性の向上および極薄膜化（~10 nm）が可能となった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 386 Kバイト