溶液プロセスで作製した透明ZnO膜のUV照射による低抵抗化と波長依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-087

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Low resistivity of solution-processed transparent ZnO film attained by UV irradiation and wave length dependences

著者名: 米元 謙太朗(東京工業大学),清野 裕斗(東京工業大学),我田 元(信州大学),松下 伸広(東京工業大学)

著者名(英語): Kentaro Yonemoto(Tokyo Institute of Technology),Yuto Seino(Tokyo Institute of Technology),Hajime Wagata(Shinshu University),Nobuhiro Matsushita(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 酸化亜鉛,溶液プロセス

要約(日本語): 近年、透明導電膜はハイテク産業に必要不可欠な材料となっているが、その代表でもあるITOには高コストという問題点がある。したがって本研究ではスピンスプレー法という溶液プロセスにより、資源の豊富な酸化亜鉛を安価に成膜することを目的とした。スピンスプレー法でクエン酸イオンを同時にスプレーすることで(002)方向の結晶成長を抑制し、可視光領域で透過率80%以上の透明な酸化亜鉛膜を得られた。厚さは約1マイクロメートルであり、UV-A(320?380 nm)を照射することで抵抗率が減少し、導電率が向上する結果となった。この低抵抗化のUV波長依存性を評価するため、特定のUV波長(340, 365, 370, 380 nm)を照射し、効果的に低抵抗化できる波長をさらに調査した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 408 Kバイト