フッ酸系エッチャントを用いたZnMgTe/ZnTe光導波路のリッジ加工
フッ酸系エッチャントを用いたZnMgTe/ZnTe光導波路のリッジ加工
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-092
グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集
発行日: 2016/03/05
タイトル(英語): Fabrication of ridge type ZnMgTe/ZnTe waveguides using HF etchants
著者名: 風見 蕗乃(早稲田大学),孫 惟哲(早稲田大学),王 兢(早稲田大学),中須 大蔵(早稲田大学),服部 翔太(早稲田大学),木津 健(早稲田大学),橋本 勇輝(早稲田大学),小林 正和(早稲田大学),朝日 聡明(JX金属)
著者名(英語): Fukino Kazami(Waseda University),Wei-Che Sun(Waseda University),Jing Wang(Waseda University),Taizo Nakasu(Waseda University),Shota Hattori(Waseda University),Takeru Kizu(Waseda University),Yuki Hashimoto(Waseda University),Masakazu Kobayashi(Waseda University),Toshiaki Asahi(JX Nippon Mining & Metals Corporation)
キーワード: 分子線エピタキシー,テルル化亜鉛,腐食
要約(日本語): 電気光学効果素子への応用に向けてZnMgTe/ZnTe光導波路を作製している。今回、導波光の伝搬損失を抑えるためにリッジ加工を試みた。しかし、硫酸系エッチャント用いた場合エッチング後の表面に残留物が確認された。そこで、フッ酸系エッチャントと塩酸による残留物除去法(リンス)に注目し、ZnTe基板を用いて硫酸系エッチャントとのエッチングの比較を行った。また、エッチャントの混合比を変えエッチング速度との関係を調べた。 フッ酸系エッチャントに対して塩酸リンスを行ったところ、エッチング表面から残留物が除去され、硝酸が多いほどエッチング速度が速くなることが明らかになった。これらよりリッジ型光導波路作製への知見を得ることが出来た。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 492 Kバイト
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