最急降下法を用いた集合磁区モデルによる薄膜磁気インピーダンス素子の磁化過程解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-099

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Magnetization Analysis of Thin Film Magnetoimpedance Element Using Assembled Domain Structure Model with the Steepest Descent Method

著者名: 手島 彰吾(京都大学),伊藤 俊平(京都大学),美舩 健(京都大学),松尾 哲司(京都大学)

著者名(英語): Shogo Tejima(Kyoto University),Shumpei Ito(Kyoto University),takeshi Mifune(Kyoto University),tetsuji Matsuo(Kyoto University)

キーワード: 磁区,最急降下法,磁気インピーダンス素子

要約(日本語): マクロスケールの磁性材料の解析手法として開発された集合磁区モデルを用いて薄膜磁気インピーダンス素子の磁化過程解析を行う。エネルギー極小化手法として、これまで人工的な状態方程式が用いられてきたが、それにより導かれる安定平衡点が実際の磁化過程に対応しているかは判別できない。そこで最急降下法を用いて探索した解と比較することで、磁化履歴への依存性を検証するとともに、計算時間の短縮も図る。これらの方法により解析した結果、磁化曲線はほぼ一致し、磁化履歴への依存性を確認できた。さらに、最急降下法を用いて計算ステップ数を減らすことに成功した。（266字）

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 366 Kバイト