DES浴から作製したFe-Coめっき膜の成膜速度の向上に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-109

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Improvement in plating rate of Fe-Co films electroplated from DES-based plating baths

著者名: 秋吉 俊貴(長崎大学),江口 和樹(長崎大学),東 圭太(長崎大学),白石 洸太郎(長崎大学),渡邊 佳正(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Toshiki Akiyoshi(Nagasaki University),Kazuki Eguchi(Nagasaki University),Keita Azuma(Nagasaki University),Kotaro Shiraishi(Nagasaki University),Yoshimasa Watanabe(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 電気めっき,深共晶溶媒,鉄-コバルト合金,軟磁性膜,電流密度,浴濃度

要約(日本語): 深共晶溶媒（DES: Deep Eutectic Solvent）は，水には無い多くの工業的特長を有していることから，めっき膜作製における新規溶媒として期待されている。これまでに我々は，DESを用いためっき浴からFe基軟磁性膜を高い電流効率で作製可能であることを示してきた。膜状磁性体の工業的応用を鑑みると，高い成膜速度を有するプロセスが有利であり，めっき条件である電流密度・電流効率は，成膜速度に大きな影響を与えるパラメータである。本稿では，DES浴から成膜したFe-Co系膜の成膜速度の向上に関して電流密度，浴条件の影響を検討したのでその結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 291 Kバイト