基板回転による斜め入射スパッタ法で作製したFeCo-CaFナノグラニュラー膜の磁気特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-111

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Magnetic properties of FeCo-CaF nanogranular films deposited using an oblique incident sputtering by substrate rotation

著者名: 池田 賢司(電磁材料研究所),岩佐 忠義(電磁材料研究所),直江 正幸(電磁材料研究所),小林 伸聖(電磁材料研究所),荒井 賢一(電磁材料研究所)

著者名(英語): Kenji Ikeda(Research Institute for Electromagnetic Materials),Tadayoshi Iwasa(Research Institute for Electromagnetic Materials),Masayuki Naoe(Research Institute for Electromagnetic Materials),Nobukiyo Kobayashi(Research Institute for Electromagnetic Materials),Ken-Ichi Arai(Research Institute for Electromagnetic Materials)

キーワード: 磁性薄膜,ナノグラニュラー,フッ化物,基板回転,斜め入射

要約(日本語): ナノグラニュラー構造磁性薄膜は、高い透磁率と絶縁性を両立できることから、高周波用軟磁性材料として着目されている。本検討では、高い絶縁性が得られるフッ化物を用い、基板を回転させてスパッタ粒子を斜めに入射して作製したFeCo-CaFナノグラニュラー薄膜の磁気特性を解析した。作製した薄膜は、基板回転方向を磁化容易軸とする一軸磁気異方性を示す。これは、基板を回転させることにより、スパッタ粒子が斜め方向に入射されることが影響していると推測できる。講演では、FeCoとCaFの比率を変えた場合の磁気特性変化、基板回転方向及び薄膜の結晶構造と磁気異方性の関連性についても述べる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 317 Kバイト