バイアススパッタリング法による窒化鉄積層膜の生成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-112

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Formation of Iron Nitried Multilayered Thin Film by Bias Sputtering Method

著者名: 松本 恵(日本大学),新妻 清純(日本大学),矢澤 翔大(日本大学)

著者名(英語): Satoshi Matsumoto(Nihon University),kiyozumi Niizuma(Nihon University),shota Yazawa(Nihon University)

キーワード: バイアススパッタリング法,RFスパッタリング法,窒化鉄

要約(日本語): 本研究では，RFスパッタ法による窒化鉄積層薄膜の生成に対するDCバイアス電圧の影響を試みた。X線の結果として，DCバイアス電圧を印加しない場合，γ'^Fe4Nの単相膜が認められ，DCバイアス電圧-210Vを印加したとき，α-Feの単相膜が認められた。DCバイアス電圧-250Vを印加した膜では，膜中に若干の窒素の混入が認められた。本研究では，負バイアス電圧を印加もしく印加しないことで，窒化鉄積層薄膜の生成に成功した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 291 Kバイト