金属-絶縁物同時電解析出法によるFe-Co-Ce-O薄膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-114

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Preparation of Fe-Co-Ce-O films by the Metal-Oxide Co-electrodeposition Method

著者名: 松本 直也(奈良工業高等専門学校),小林 靖之(大阪市立工業研究所),品川 勉(大阪市立工業研究所),池田 慎吾(大阪市立工業研究所),松原 浩(長岡技術科学大学),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Naoya Matsumoto(National Institute of Technology, Nara College Faculty of Advanced Engineering),Yasuhiro Kobayashi(Osaka Municipal Technical Research Institute),Tsutomu Shinagawa(Osaka Municipal Technical Research Institute),Shingo Ikeda(Osaka Municipal Technical Research Institute),Hiroshi Matsubara(Nagaoka University of Technology),Naoyuki Fuita(National Institute of Technology, Nara College Faculty of Advanced Engineering)

キーワード: 金属-酸化物コンポジット薄膜,金属-酸化物同時電析法,磁気異方性

要約(日本語): 我々は、電磁波吸収材料などへの応用が期待される金属－絶縁物系グラニュラ薄膜を金属－酸化物同時電析／無電解析出法で作製することに取り組んでおり、これまでにCo-Ce-Oなどの作製に成功している。しかし、GHz帯の電磁波吸収をさせるには飽和磁化M_Sと異方性磁界H_Kの上昇が必要である。そこで、Fe-Co-Ce-Oを作製し，Fe-Coの異方的配置によるH_Kの増大とFe-Co合金化によるM_Sの上昇を目指した。その結果、今回初めてFeとCoの2種類の磁性元素からなるFe-Coと，Ce-Oを水溶液から同時析出させたFe-Co-Ce-Oの作製に成功した。また、膜中のFeとCoは溶液中のFeとCoの濃度で制御できることが分かった。さらに、Coを添加することで0?20at.%Coの範囲で、Fe-Ce-Oに比べM_Sが増大することが明らかになった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 519 Kバイト