真空中における陰極めっきによる絶縁性能向上

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-016

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Improvement of Dielectric Strength by Cathode Plating in Vacuum

著者名: 高橋 達也(名古屋大学),小島 寛樹(名古屋大学),長谷川 光佑(明電舎),榊 正幸(明電舎),早川 直樹(名古屋大学)

著者名(英語): Tatsuya Takahashi(Nagoya University),Hiroki Kojima(Nagoya University),Kosuke Hasegawa(MEIDENSHA CORPORATION),Masayuki Sakaki(MEIDENSHA CORPORATION),Naoki Hayakawa(Nagoya University)

キーワード: 真空放電,コンディショニング,めっき,不平等電界,真空遮断器,絶縁破壊

要約(日本語): 環境適合性の高い真空遮断器の高電圧化のために、真空中の絶縁性能の向上が求められている。真空中の絶縁破壊は電極表面によって支配されるため、絶縁性能の高い金属で電極表面をめっきすることで、絶縁性能の向上が可能になると期待される。今回、陰極をめっきした電極とめっき材料および母材単体の絶縁性能の比較・検討を行った。その結果、めっきを施した電極の絶縁破壊電圧は熱処理前のめっきの膜厚に対して極大値を持ち、極大値はめっき材料単体の絶縁破壊電圧程度であり、絶縁性能の高い金属で電極表面に適切な厚さでめっきを施すことで絶縁破壊電圧が向上することを明らかにした。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 268 Kバイト