サブストレートヒューズにおける並列遮断点効果の要因に関する検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-042

グループ名: 【全国大会】平成28年電気学会全国大会論文集

発行日: 2016/03/05

タイトル(英語): Examination of Parallel Interruption Points Effect on Substrate Fuse

著者名: 庄司 晴紀(埼玉大学),山納 康(埼玉大学)

著者名(英語): Haruki Shoji(Saitama University),Yasushi Yamano(Saitama University)

キーワード: サブストレートヒューズ,並列遮断点,アーク

要約(日本語): サブストレートヒューズとはセラミック基板上にヒューズエレメントを形成したものである。このヒューズにおいて，遮断部を並列に分割し，並列遮断点数を増やすことによって，遮断特性が向上することが確認されている。この並列遮断点数の増加による遮断特性の向上効果をP効果と呼ぶ。また，精密電鋳技術を応用し，微細な遮断部が形成された微細加工ヒューズエレメントを製作し，その遮断特性を調査したところ，P効果には限界があることが確認できた。本論文では，遮断部をエレメントの中心方向に寄せ，隣り合う遮断部の間隔を変化させることで，P効果の要因を追求した。P効果は，発孤時の隣接するアークにより影響されることが示唆された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 320 Kバイト