マイクロ波励起大気圧プラズマ支援による薄膜堆積法の検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-106

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Investigation of Thin Film Deposition Method Assisted by Microwave Excited Atmospheric Pressure Plasma法の検討

著者名: 大野 常久(金沢大学),山田 涼輔(金沢大学),當摩 哲也(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Tsunehisa Ono(Kanazawa University),Ryosuke Yamada(Kanazawa University),Tetsuya Taima(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University)

キーワード: プラズマ|ZnO|薄膜|マイクロ波|大気圧

要約(日本語): 電子デバイスの製造には有機膜や無機膜の製膜工程があり、低温・低コストな製膜手法が求められている。我々は、マイクロ波励起大気圧プラズマジェット(MWAPPJ)を用いた簡便な製膜手法を研究している。本研究ではMWAPPJにより生成した活性種とターゲット材を作用・堆積させる、ZnO薄膜堆積手法を検討した。Sol-gel前駆体を担持したターゲット材に、MWAPPJ(O₂:0%)を照射し堆積物を生成した。堆積物に対するXPS分析からZnスペクトルは、Sol-gel法による薄膜と比較して、より安定な結合状態を示しMWAPPJ(O₂:0.1%)照射では、更に安定な結合状態を示した。結果からMWAPPJにより酸素由来の活性種が生成され、ZnO薄膜堆積時のZnとO原子との反応を促進し、安定なZnO結合を形成したことが示唆される。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 271 Kバイト