ターゲット中央からのガス供給によるマグネトロンスパッタリングの成膜特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-114

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Film formation characteristics of magnetron sputtering with gas supply from the center of the target

著者名: 三好 邦明(兵庫県立大学),徳永 拓真(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Kuniaki Miyoshi(University of Hyogo),Takuma Tokunaga(University of Hyogo),Kingo Azuma(University of Hyogo)

キーワード: 不平衡型マグネトロンスパッタリング|ガス供給法|チタンターゲット|プラズマイオンプロセス

要約(日本語): 不平衡マグネトロンスパッタリングにおいて、ターゲットの中央よりガスを供給できる構造のマグネトロンスパッタリング源を構築した。スパッタターゲットとして、一般的な直径70 mmの平板ターゲットと中央に直径12 mmの拡散板を持つ穴あきターゲットの二つについて比較した。それぞれのターゲットに対してArガスを供給し、直流放電させたところ、ガス圧力0.3 Paのとき、通電電流が1 Aにおいて、穴あきターゲットは平板ターゲットに比べて約40 %高い成膜速度が得られた。その効果はターゲット電流が低いときに大きく、ターゲット電流を大きくすると、その差は小さくなった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 204 Kバイト