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高強度パルス窒素イオンビーム発生用両極性パルス加速器の開発

高強度パルス窒素イオンビーム発生用両極性パルス加速器の開発

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-187

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Development of Bipolar Pulse Accelerator to produce Intensity Pulsed Nitrogen Ion Beam

著者名: 朴木 太郎(富山大学),今井 嘉生(富山大学),大橋 隼人(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学)

著者名(英語): Taro Honoki(University of Toyama),Yoshiki Imai(University of Toyama),Hayato Ohashi(University of Toyama),Hiroaki Ito(University of Toyama)

キーワード: パルスパワー|イオンビーム|加速器|パルスイオン注入

要約(日本語): 炭化ケイ素(SiC)は新パワーデバイスとして実用化が進められている.しかし基板作製プロセスにおいてイオン注入の問題が上げられ,本研究室ではイオン注入と結晶欠陥回復のためのアニール処理が同時に行えるパルスイオン注入法を提案してきた.そこで多様なイオン種の発生,高純度・高強度パルスイオンビーム源が必要であり新しいパルス重イオン加速器として両極性パルス加速器の開発を行ってきた.実験条件はイオン源陽極表面から 60 mm 下流に設置した BIC ( Biased Ion Collector ) で窒素イオンビームを測定した.その結果,イオン電流密度 Ji = 23.9 A/cm2が得られ,イオン飛行時間法からエネルギーを概算すると60 - 120 keV (N+) となり, イオンビームの初段加速を確認した.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 415 Kバイト

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