高周波伝送線路型プローブによる磁性薄膜の磁気ひずみ計測法の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-096

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Development of New Magnetostriction Measurement by High-Frequency Transmission Line Probe

著者名: 遠藤 恭(東北大学),薮上 信(東北学院大学),森 修(東栄科学産業),内海 良一(東栄科学産業),島田 寛(東栄科学産業)

著者名(英語): Yasushi Endo(Tohoku University),Shin Yabukami(Tohokugakuin University),Osamu Mori(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Ryoichi Utsumi(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Yutaka Shimada(Toei Scientific Industrial Co., LTD)

キーワード: 磁気ひずみ|磁化ダイナミクス|ダンピング定数|応力負荷|高周波伝送線路

要約(日本語): 本研究では，高周波伝送線路型プローブを磁性膜に近接させ，応力負荷による磁気共鳴周波数の変化から磁気ひずみを評価し，同時に磁化ダイナミクスの計測が可能な方法を新たに提案する。磁性薄膜としてこれまで光てこ法およびCPW‐FMR法で磁気ひずみ定数およびダンピング定数を把握済みであるNi-Fe膜を選択し，その基本性能を確認して磁化ダイナミクスとの関係をを議論する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 226 Kバイト