Si基板上Nd-Fe-B系厚膜磁石のデバイス応用に関する検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-101

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Investigation on Nd-Fe-B thick film magnets deposited on Si substrates applied for devices

著者名: 清水 大(長崎大学),竹馬 雄(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): DAi Shimizu(Nagasaki University),Yu Chikuba(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: PLD|Nd-Fe-B|Si基板

要約(日本語): デバイス応用を鑑み，数10 ?m/hの成膜速度を有するPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い，Si基板への等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の成膜を試みた.厚さの異なる3種類の熱酸化膜と自然酸化膜を持つ計4種類のSi基板を用い，Si基板と厚膜磁石の界面に存在する「酸化膜の厚み」が試料の磁気特性と機械特性に及ぼす影響を検討した．加えて、その試料の磁気特性や磁石膜にダイシング加工を施すことで発生する機械特性について評価した結果を示す．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 512 Kバイト