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下地層利用によるSi基板上Nd-Fe-B系厚膜磁石の磁気特性改善

下地層利用によるSi基板上Nd-Fe-B系厚膜磁石の磁気特性改善

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-102

グループ名: 【全国大会】平成29年電気学会全国大会論文集

発行日: 2017/03/05

タイトル(英語): Improvement in magnetic properties of Nd-Fe-B thick film magnets deposited on Si substrates by taking advantage of underlayer

著者名: 山口 雄太(長崎大学),清水 大(長崎大学),竹馬 雄(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Yuta Yamaguti(Nagasaki University),Dai Shimizu(Nagasaki University),Yu Chikuba(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Hukunaga(Nagasaki University)

キーワード: Nd-Fe-B系磁石|PLD|バッファ層

要約(日本語): 我々はPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い,熱酸化膜付きSi基板上に等方性Nd-Fe-B系磁石膜を成膜する際,Nd含有量を20 at. %以上に増加させることにより,熱処理時に生じる試料破壊を克服し,160 ?mまでの厚膜化を実現した。しかしながら,上記の化学量論組成に比べ多量に存在するNdは,保磁力を向上させるものの,残留磁気分極や(BH)maxの低下を招き,磁気特性向上の観点からは好ましくない。本研究では,磁石膜とSi基板の界面に人工的に(1) Nd下地層もしくは(2)Nd-richなNd-Fe-B下地層を設けた後,Nd含有量16 at. %以下のNd-Fe-B系厚膜磁石を成膜し,10?100 μm程度の膜厚範囲において,試料全体のNd含有量の低減を促し,磁気特性の向上を図ったので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 327 Kバイト

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