任意電圧波形を用いたC7H8+Ar+H2プラズマ生成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-074

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル：任意電圧波形を用いたC₇H₈+Ar+H₂プラズマ生成

タイトル(英語): Generation of たC₇H₈+Ar+H₂ Plasmas using Tailored Voltage Waveforms

著者名: 古閑 一憲(九州大学),山木 健司(九州大学),Taojun Fang(九州大学),山下 大輔(九州大学),徐 鉉雄(九州大学),板垣 奈穂(九州大学),白谷 正治(九州大学)

著者名(英語): Kazunori Koga(Kyushu University),Kenji Yamaki(Kyushu University),Taojun Fang(Kyushu University),Daisuke Yamashita(Kyushu University),Hyunwoong Seo(Kyushu University),Naho Itagaki(Kyushu University),Masaharu Shiratani(Kyushu University)

キーワード: 任意電圧波形,プラズマCVD,炭素薄膜,異方性製膜

要約(日本語): 本研究では、任意電圧波形を用いたプラズマCVDのラジカルとイオンの精密制御堆積を実現することを目的として、筆者等が開発した水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を印加してプラズマを生成した結果について報告する。13.56MHzと27.12MHzの高周波を重畳して位相差を変化することで、セルフバイアス電圧を制御可能であることを明らかにした。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 271 Kバイト