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対向発散磁界下誘導結合型磁化プラズマ中の電子エネルギー利得と電子周方向速度の空間分布解析

対向発散磁界下誘導結合型磁化プラズマ中の電子エネルギー利得と電子周方向速度の空間分布解析

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-084

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Analyses of Spatial Distributions of Electron Energy Gain and Azimuthal Velocity in Inductively Coupled Plasma under Confronting Divergent Magnetic Fields

著者名: 中島 克博(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学)

著者名(英語): Katsuhiro Nakashima(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University)

キーワード: 誘導結合型プラズマ,対向発散磁界,モンテカルロ法,フィッティング,電子エネルギー利得,電子周方向速度

要約(日本語): 電子閉じ込め効果を持つ対向発散磁界下誘導結合型RFプラズマ中の電子エネルギー利得Gと電子周方向速度vθに影響を及ぼす要素の検討を目的に電磁界下の電子運動をモンテカルロ法により模擬した。Gとvθを容器中の各区画で位相分解・フィッティングし、フィッティングパラメータを分布図にすることで全域的なRF応答の様子を俯瞰した。vθのパラメータは励起源直下を含む広範囲で共通の傾向を示したがGのパラメータは励起源直下で特異的であった。Gとvθの関係を理論式で表した。これらの結果より、Gを決める要因は電界とvθに分離され、vθは電界にはさほど依存しないということがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 446 Kバイト

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