ペニング型大電力パルススパッタ放電を用いたガラス基板上への窒化チタン薄膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-115

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Titanium nitride deposition on Glass Substrate by High Power Pulsed Sputtering Penning Discharge

著者名: 永井 僚(兵庫県立大学),東 欣吾(兵庫県立大学)

著者名(英語): Nagai Ryo(University of Hyogo),Azuma Kingo(University of Hyogo)

キーワード: スパッタリング,パルス放電,ペニング放電,チタンターゲット,反応性スパッタリング,抵抗率

要約(日本語): 薄膜分野において膜対象粒子をイオン化することで、薄膜の高機能化ができることが示唆されている。そのイオン高効率生成装置の1つとしてペニング型大電力パルススパッタ放電（HPPS-PD）装置がある。本装置は大電力パルススパッタ放電(HPPS)を用いた小型で高電離度の金属プラズマ源で、ペニング放電と呼ばれる形態の放電を用いる。今回、Tiターゲットを使用し、Ar及びN2雰囲気ガス中でガラス基板に対し成膜を行い成膜速度、電気抵抗等の調査を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 279 Kバイト