準大気圧プラズマCVDによる高濃度CF4原料ガスからのフルオロカーボン膜の成膜特性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-116

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル：準大気圧プラズマCVDによる高濃度CF₄原料ガスからのフルオロカーボン膜の成膜特性

タイトル(英語): Formation characteristics of fluorocarbon film from concentrated CF₄ feedstock gas by sub-atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

著者名: 木倉 丈(大阪大学),田中 智之(大阪大学),竹本 啓輝(大阪大学),垣内 弘章(大阪大学),安武 潔(大阪大学),大参 宏昌(大阪大学)

著者名(英語): Jou Kikura(Osaka University),Tomoyuki Tanaka(Osaka University),Hiroki Takemoto(Osaka University),Hiroaki Kakiuchi(Osaka University),Kiyoshi Yasutake(Osaka University),Hiromasa Ohmi(Osaka University)

キーワード: 準大気圧プラズマ,プラズマ重合フルオロカーボン膜,プラズマCVD,CF4

要約(日本語): PPFC(Plasma Polymerization Fluorocarbon)膜は，電気絶縁性,耐薬品性,撥水生を有する機能膜として様々な応用が期待されている．しかし，その原料ガスには,C₄F₈やC₆F₆など高次の炭素を含有するフルオロカーボンガスが用いられることがもっぱらであり,PPFC膜の形成を廉価なCF₄で実現できれば,コストメリットは大きい．そこで本研究ではCF₄原料ガスからのPPFC膜の高速形成を目指し，高圧・高濃度雰囲気下でのプラズマCVD法を試みた.今回はPPFC膜の形成に寄与するパラメータを調査した結果を報告する.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 619 Kバイト