カーボン薄膜の選択プラズマCVD

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-121

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Selective Plasma CVD of Carbon Films

著者名: 白谷 正治(九州大学),TAOJUN FANG(九州大学),山木 健司(九州大学),徐 鉉雄(九州大学),板垣 奈穂(九州大学),古閑 一憲(九州大学)

著者名(英語): Masaharu Shiratani(Kyushu University),Taojun Fang(Kyushu University),Kenji Yamaki(Kyushu University),Hyunwoong Seo(Kyushu University),Naho Itagaki(Kyushu University),Kazunori Koga(Kyushu University)

キーワード: プラズマCVD,カーボン薄膜

要約(日本語): カーボン薄膜は、高いガスバリア性・低摩擦性・耐摩耗性・耐焼き付き性・耐食性などの優れた特長を有しているため、自動車部品や機械部品などの摺動部、工具や金型の表面処理、さらには半導体デバイスプロセスにおける保護膜など、多様な用途がある。多くの用途において下地や形状などの違いを利用し、選択的にカーボン薄膜を堆積する技術が求められている。本論文では、プラズマCVDによりカーボン薄膜を選択的に堆積する技術について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 418 Kバイト