水蒸気雰囲気下におけるマイクロ波励起プラズマを用いた種々のポリマー膜に対するアッシングメカニズムの検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-122

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Investigation of Ashing Mechanism for Various Polymer Films using Microwave Excited Plasma under Water Vapor

著者名: 島田 大伸(金沢大学),鈴木 宏明(金沢大学),相澤 洸(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),高森 司真(大阪市立大学),西山 聖(大阪市立大学),堀邊 英夫(大阪市立大学)

著者名(英語): Taishin Shimada (Kanazawa University), Hiroaki Suzuki (Kanazawa University), Takeshi Aizawa (Kanazawa University), Tatsuo Ishijima (Kanazawa University), Yasunori Tanaka (Kanazawa University), Yoshihiko Uesugi (Kanazawa University), Kazuma Takamori (Osaka City University), Takashi Nishiyama(Osaka City University),Hideo Horibe(Osaka City University)

キーワード: 水プラズマ,アッシング,半導体製造,マイクロ波,発光分光,ミニマルファブ

要約(日本語): 我々は、水のみを原料とするマイクロ波励起水プラズマによる低環境負荷のレジスト除去法の開発を進めている。本手法は、ウェハを水に直接接触させて高い冷却効果を持たせつつ，極めて高いレジスト除去速度 ( > 1 ?m/min )を実現できることが特徴である。これまで5種類のポリマー膜(PVP，PCHMA，PBeMA，PPrMA PEMA)に対してアッシング時の時分解分光計測を行った。H?の発光強度は，側鎖にベンゼン環を有するPVPの場合は時間的に減少し極小値が見られるのに対し、他の4種のポリマー膜の場合には極小値をとらないことを見出した。本報では、5種のポリマー膜に対してアッシングレートの評価を行い、化学構造の差異に伴うポリマー除去の様相を検討し報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 282 Kバイト