酸性条件下でのゾル-ゲル電気泳動堆積法によるシリカ膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-082

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Preparation of a silica films using the colloidal silica by the sol-gel electrophoretic deposition under acid condition

著者名: 坂本 竜也(三重大学),青木 裕介(三重大学)

著者名(英語): tatsuya Sakamoto(Mie University),Yusuke Aoki(Mie University)

キーワード: ゾルーゲル法,電気泳動堆積法,シリカ膜

要約(日本語): 本研究では酸性条件下での異なるpH条件での電気泳動堆積法によりシリカ薄膜を作製し，堆積膜の構造に与える影響を調べた結果を報告する。さらに，作製されたシリカ膜の耐腐食性についても合わせて報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 262 Kバイト