集積型光アイソレータ実現のための磁気光学薄膜形成条件の検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-098

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Study on film growth conditions for magneto-optical thin film for integrated optical isolator

著者名: 白鳥 大毅(沼津工業高等専門学校),野毛 悟(沼津工業高等専門学校)

著者名(英語): Daiki Shiratori(National Institute of Technology, Numazu college),Satoru Noge(National Institute of Technology, Numazu college)

キーワード: 磁気光学効果,単結晶薄膜,YIG,セリウム置換YIG,エピタキシャル成長,アモルファス

要約(日本語): 本報告では，光アイソレータをはじめとする磁気光学素子や磁気センサへの応用をめざした機能性薄膜形成技術の提案と検討経過を述べる。従来のエピタキシャル成長法における下地基板による制約の軽減法として、著者らが提案した手法として種結晶片を用いた熱処理（コンタクトエピタキシャル法）を紹介する。本手法の特徴は非晶質基板（例えば溶融石英ガラス）上に、機能性酸化物薄膜を形成するための有効な手段と考えられる。対象として磁気光学材料の一つであるCe置換YIGを取り上げ、置換量x=1.5の薄膜の獲得を目標とした成膜条件の探索を行った。今回はコンタクトエピタキシャル法の紹介とその実験結果より提案手法の有効性を述べる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 350 Kバイト