磁性薄膜における磁化ダイナミクスの新規計測法の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-099

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Development of the New Measurement Technique for Magnetization Dynamics of Magnetic Thin Films

著者名: 遠藤 恭(東北大学),薮上 信(東北学院大学),森 修(東栄科学産業),内海 良一(東栄科学産業),島田 寛(東栄科学産業)

著者名(英語): Yasushi Endo(Tohoku University),Shin Yabukami(Tohokugakuin University),Osamu Mori(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Ryoichi Utsumi(Toei Scientific Industrial Co., LTD),Yutaka Shimada(Toei Scientific Industrial Co., LTD)

キーワード: 磁化ダイナミクス,強磁性共鳴,飽和磁気ひずみ,ダンピング定数,磁性薄膜

要約(日本語): 磁性薄膜の磁化ダイナミクスの研究は，磁気物性だけでなく磁気デバイス応用においても盛んに行われており，その主要なパラメータに一つであるであるダンピング定数（α）を理解することが重要である．我々はこれまでにNi-Fe膜のαが飽和磁気ひずみと関係が深いことを明確にした．これらのパラメータの関連性をより詳細に検討するには，一つの試料を用いて同時にこれらのパラメータを評価することが重要である．本研究では，磁気信号検出用プローブを磁性薄膜に近接させ，強磁性共鳴周波数の応力負荷の有無による変化を計測し，飽和磁気ひずみとダンピング定数とを同時に評価できることを示した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 326 Kバイト