アンモニウム塩浴からパルスめっき法で作製したFe-Ni膜

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-103

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Fe-Ni films prepared in ammonium-salt-based baths using a pulse plating method

著者名: 荒牧 秀行(長崎大学),加治 淳一(長崎大学),幸田 一輝(長崎大学),高嶋 恵介(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Hideyuki Aramaki|Junichi Kaji|Kazuki Kouda|Keisuke Takasima|Takeshi Yanai|Masaki Nakano|hirotoshi Fukunaga

キーワード: パルスめっき,保磁力,飽和磁化,アンモニウム塩,熱処理

要約(日本語): 本研究室では， Fe-Ni系めっき膜に着目し研究を行っている。Fe-Niめっき膜に関するこれまでの取り組みでは，Niめっきで報告されたクエン酸浴をFe-Ni膜へと展開し，優れた軟磁気特性を有するFe-Ni膜を実現してきた。金属イオンの錯化剤をクエン酸からアンモニウム塩に変更することで，クエン酸浴よりも低保磁力化が可能であることも見出している。本稿では，膜質改善や軟磁気特性改善を鑑み，成膜中にOFF期間を設けるパルスめっき法を用いたFe-Ni膜作製を行った。パルスめっき法で作製した膜はDCめっき法で作製した膜よりも低保磁力を示す傾向が得られ，電着応力緩和による軟磁気特性改善効果が小さい，すなわち電着応力が小さいことを示唆するものであることが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 248 Kバイト