Si基板上Nd-Fe-B系磁石膜の厚膜化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-106

グループ名: 【全国大会】平成30年電気学会全国大会論文集

発行日: 2018/03/05

タイトル(英語): Increase in thickness of Nd-Fe-B film magnets deposited on Si substrates

著者名: 山口 雄太(長崎大学),清水 大(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Yuta Yamaguchi(Nagasaki University),Dai Shimizu(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: Nd-Fe-B系磁石,PLD法,酸化膜,Si基板,下地層

要約(日本語): スパッタリング法を用いてSi基板上にNd-Fe-B系磁石膜を成膜した報告がなされる中，基板と磁石膜の著しく異なる線膨張係数により，成膜時もしくは熱処理時に応力が生じ， Nd-Fe-B系磁石膜がSi基板より剥離する現象が報告されている。一方，我々はPLD法を用い，500 nm厚の熱酸化膜付きSi基板上にNd-Fe-B系磁石膜を成膜し，熱処理過程を通じ試料が破壊される際，剥離ではなく，Si基板の内部より壊れる現象を確認している。本研究では，様々な「Nd含有量」や「厚み」を有するNd-Fe-B系磁石膜を準備し，Si基板上の酸化膜の厚みが「磁石膜の剥離」や「Si基板の破壊」に及ぼす影響を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 254 Kバイト