同軸プラズマガン堆積法におけるインパルス電圧と気圧・間隙長の特性について

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-055

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Property of impulse voltage, gas pressure and gap length on a coaxial plasma gun deposition method

著者名: 八重樫 哉雅(日本大学),橋口 舞(日本大学),胡桃 聡(日本大学),松田 健一(日本大学),鈴木 薫(日本大学),小林 大地(日本大学),関口 純一(日本大学),浅井 朋彦(日本大学)

著者名(英語): Saiga Yaegashi(Nihon University),Mai Hashiguchi(Nihon University),Satoshi Kurumi(Nihon University),Ken-ichi Matsuda(Nihon University),Kaoru Suzuki(Nihon University),Daichi Kobayashi(Nihon University),Junichi Sekiguchi(Nihon University),Tomohiko Asai(Nihon University)

キーワード: 同軸プラズマ堆積法,ホイスラ―合金

要約(日本語): Fe2TiAl系フルホイスラ―合金は有害元素を含まず，理論的に高い熱電能を有すると考えられている．しかし，各元素配合量の僅かな変化がゼーベック係数の大きさや符号に影響することが分かっており，制御の困難さが応用上の期待を低下させている．そこで我々が着目したのが同軸プラズマガン (Coaxial Plasma Gun, CPG) (1)を用いた堆積法である．これは複数種の金属からなる内部電極を持つCPGを個別にインパルス放電させ，スパッタされる各々の微粒子を制御することにより合金薄膜が生成可能な方法である．本稿ではAlターゲットCPGの基礎特性としてインパルス電圧と気圧・間隙長の関係について報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 330 Kバイト