ソレノイドの一様磁場輸送中におけるレーザーアブレーションプラズマのイオン電流密度分布

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-062

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Ion current density profile of laser ablation plasma transported in uniform magnetic field of solenoid

著者名: 高橋 一匡(長岡技術科学大学),和田 雄太(長岡技術科学大学),佐々木 徹(長岡技術科学大学),菊池 崇志(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Kazumasa Takahashi(Nagaoka University of Technology),Yuta Wada(Nagaoka University of Technology),Toru Sasaki(Nagaoka University of Technology),Takashi Kikuchi(Nagaoka University of Technology)

キーワード: レーザーイオン源,重イオンビーム,レーザーアブレーションプラズマ,ソレノイド磁場

要約(日本語): レーザーイオン源は、高強度レーザーを固体ターゲットに照射することによって高密度のプラズマを生成することが可能であるため大電流のイオンビームが供給できる。イオン源の長パルス化に伴うイオン電流の減少を抑制するため磁場印加によるプラズマのガイディングが検討されている。重イオン慣性核融合のイオン源では、マルチビームレット方式が検討されており、プラズマから多数のイオンビームを引き出す必要があるため、径方向に一様な密度分布のプラズマが必要となる。本研究ではソレノイドによる縦磁場を印加し、径方向のイオン電流密度分布の変化を調べた結果、イオン電流密度分布は中心の電流密度が高い分布を維持しながらソレノイド内を輸送されることが明らかになった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 177 Kバイト