弱電離気体プラズマの解析(CLI) N2ガス中の高次の係数の測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-070

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル：弱電離気体プラズマの解析(CLI) N₂ガス中の高次の係数の測定

タイトル(英語): Studies on weakly ionized gas plasma (CLI) Measurement of high-order coefficient in N₂ gas

著者名: 中田 理幸(室蘭工業大学),川口 悟(室蘭工業大学),高橋 一弘(室蘭工業大学),佐藤 孝紀(室蘭工業大学)

著者名(英語): Noriyuki Nakata(Muroran Institute of Tecnology),Satoru Kawaguchi(Muroran Institute of Tecnology),Kazushiro Takahashi(Muroran Institute of Tecnology),Kohki Satoh(Muroran Institute of Tecnology)

キーワード: 二重シャッタードリフト装置,ATS理論,電子輸送係数,高次の係数,N₂ガス

要約(日本語): 二重シャッタードリフト装置によりE/N = 300 ~ 600 Tdの範囲においてN₂ガス中の電子到着時間分布(Arrival Time Spectra : ATS)を測定し，これまで報告されていない高次の係数D₃を求め，Monte Carlo Simulation(MCS)による計算結果と比較を行った。実験により得られたATSは，ドリフト距離が長くなると，分布が遅れて現れる，拡散により分布が広がる，電離増倍によりピーク値が上昇するなどの特徴を有する結果となった。ATS理論により求めたD₃は，MCSによる計算結果と同じオーダーとなったが，ばらつきのある結果となった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 449 Kバイト