8巻-8巻の上下段コイルにより駆動するタンデム型Ar-O2誘導熱プラズマの電磁熱流体解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-076

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Electromagnetic Thermal Fluid Analysis of Tandem Ar-O 2 Inductive Thermal Plasma Driven by Upper and Lower Coils of 8 to 8 turns

著者名: 明石 恵太(金沢大学),隠田 一輝(金沢大学),清水 光太郎(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),末安 志織(日清製粉グループ本社),渡邉 周(日清製粉グループ本社),中村 圭太郎(日清製粉グループ本社)

著者名(英語): Keita Akashi(Kanazawa University),Kazuki Onda(Kanazawa University),Kotaro Shimizu(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Shiori Sueyasu(Nisshin Seifun Group Inc),Shu Watanabe(Nisshin Seifun Group Inc),Keitaro Nakamura(Nisshin Seifun Group Inc)

キーワード: アルゴン酸素誘導熱プラズマ,タンデム型,電磁熱流体解析

要約(日本語): 誘導熱プラズマ(ICTP)は，高いガス温度，高い化学反応性の特徴を有し，さらに無電極放電のため電極物質の混入がない利点がある。そのためICTPは材料処理への応用が活発である。しかしICTPは，外部擾乱に対し比較的容易に不安定となり，例えばナノ粒子生成時にトーチ内に大量原料を投入した時，熱プラズマが消滅する場合がある。この短所を解決する一手法として筆者らはタンデム型ICTPを開発している。タンデム型ICTPは，1つのトーチに2つのコイルでICTPを維持する。さらにこの2コイルに流す高周波電流を独立に制御することで，安定かつ効率的なプロセスを期待できる。材料プロセスではしばしば分子性ガスを導入し，これが熱プラズマ挙動に大きな影響を与える。本報では，シースガスからのO2流量を様々に設定した場合についてタンデム型ICTPの電磁熱流体解析を行い，温度場，流れ場および酸素混合率分布への影響を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 653 Kバイト