真空紫外吸収分光法を用いたTiN成膜用HiPIMSプラズマ中の窒素原子密度計測

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-079

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): The measurement of nitrogen-atom density by ultraviolet absorption spectroscopy on high power impulse magnetron sputtering plasma for TiN deposition

著者名: 中村 将之(名城大学),竹田 圭吾(名城大学),太田 貴之(名城大学)

著者名(英語): Masayuki Nakamura(Meijo University),Keigo Takeda(Meijo University),Takayuki Ohta(Meijo University)

キーワード: ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング,真空紫外吸収分光法,窒化チタン膜,反応性スパッタリング

要約(日本語): 中性粒子のイオン化促進と高エネルギーイオンの生成が可能なハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)において，マイクロホローカソード光源を用いる真空紫外吸収分光法によりN2/Ar ガス下におけるTi - HiPIMSプラズマ中の基底状態N原子密度計測を行った．ターゲットに印加するパルス電圧を増加させると，光吸収率，すなわちN原子密度は電源電圧の増加に伴いほぼ比例的に増加し，N2分子の解離が進むことが示唆された．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 350 Kバイト