パルススパッタペニング放電による熱可塑性樹脂基板上への窒化チタン薄膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-080

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Titanium nitride deposition on thermoplastic resin substrate by high power pulsed sputtering Penning discharge plasma

著者名: 東 欣吾(兵庫県立大学),永井 僚(兵庫県立大学),田中 達也(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学)

著者名(英語): Kino Azuma()

キーワード: パルススパッタリング,ペニング放電,HiPIMS／HPPMS,窒化チタン,反応性スパッタ,パルスパワー

要約(日本語): 高電力パルス・スパッタリング(HPPS)は、直流スパッタリングに比べ波高値が十分に大きい高電圧パルスをスパッタターゲット陰極に印加することにより、ターゲット構成物質からなる質金属プラズマを得る方法である。ペニング放電タイプ・ターゲットカソードを使用したHPPS放電はスパッタ現象に伴って生じる高エネルギーの反跳粒子がプラズマ生成領域から拡散するプラズマにほとんど含まれないため、基材の温度が上昇しにくい特徴を有する。プラズマ源から30 mmの位置にポリエチレン基板とポリ塩化ビニル基板を置き窒素雰囲気下でチタンプラズマを生成した結果、金色の膜が得られた。ただし、塩化ビニル基板ではくすんだ色になった。

原稿種別: 日本語

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