アモルファスカーボン成膜用大気圧He/CH4プラズマの数値解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-084

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル：アモルファスカーボン成膜用大気圧He/CH₄プラズマの数値解析

タイトル(英語): Numerical Analysis of Atmospheric Pressure He/CH₄ Plasma for Amorphous Carbon Films Coatings

著者名: 小嶋 正宏(千葉工業大学),大木 一真(千葉工業大学),小田 昭紀(千葉工業大学)

著者名(英語): Masahiro Kojima(Chiba Institute of Technology),Kazuma Ohki(Chiba Institute of Technology),Akinori Oda(Chiba Institute of Technology)

キーワード: プラズマCVD,プラズマシミュレーション,大気圧プラズマ

要約(日本語): アモルファスカーボン膜は機械的特性に優れた性質を持つ膜であり，PETボトルへのガスバリアコーティングや切削工具へのコーティングなどさまざまな分野に応用されている．この膜を成膜する方法の一つとして，低温プラズマを利用した大気圧プラズマCVD法がある．大気圧プラズマCVD法は真空装置が不要なため低コストであることや成膜速度が速いという利点を持つが，実用化の際には硬度などの膜特性や生成制御等に課題が残る．このような課題を解決するには本プラズマの生成維持メカニズムの解明が重要になる．そこで，大気圧プラズマ CVD 法の確立を目的とした前段階として大気圧炭化水素プラズマのシミュレーションおよび解析を行ったので報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 466 Kバイト