変調型Ar/CH 4/H2誘導熱プラズマ照射により生成する多結晶ダイヤモンド膜に対するトーチ内圧力の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-086

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル：変調型Ar/CH ₄/H₂誘導熱プラズマ照射により生成する多結晶ダイヤモンド膜に対するトーチ内圧力の影響

タイトル(英語): Pressure Influence on Polycrystalline Diamond Film Fabricated using Ar/CH ₄/H₂ Modulated Induction Thermal Plasmas

著者名: 畑 和史(金沢大学),荒井 隆志(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学),石島 達夫(金沢大学)

著者名(英語): Kazufumi Hata(Kanazawa university),Takashi Arai(Kanazawa university),Yasunori Tanaka(Kanazawa university),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa university),Tatsuo Ishijima(Kanazawa university)

キーワード: 変調誘導熱プラズマ,鋸波変調,多結晶ダイヤモンド膜,圧力,熱解離

要約(日本語): 本報告では，変調誘導熱プラズマ照射による多結晶ダイヤモンド膜生成に対して, トーチ内圧力の影響を調査した。誘導熱プラズマ(ICTP)は，高温かつ熱容量が大きく，クリーンな反応場を生成できるという利点から，材料プロセス分野への応用が期待されている。筆者らは，このICTP をダイヤモンド膜生成に応用することを考えている。熱プラズマプロセスにおいて，圧力は温度や流速などに影響を及ぼす極めて重要な要素である。本報告では, 2通りの圧力条件下でSi基板に熱プラズマを照射した。熱プラズマ照射後の基板表面をSEMおよびラマン分光分析により評価した。その結果，より低い圧力条件下で熱プラズマを照射することで，ダイヤモンド膜が高速に生成することが示唆された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 237 Kバイト