キャビテーションプラズマ発生に及ぼす印加電圧繰り返し周波数の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-098

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Influence by repetition frequency of applied voltage on generation of cavitation bubble plasma

著者名: 岡田 翔(兵庫県立大学),上田 唯人(兵庫県立大学),岡 好浩(兵庫県立大学),上野 秀樹(兵庫県立大学)

著者名(英語): Sho Okada(University of Hyogo),Yuito Ueda(University of Hyogo),Yoshihiro Oka(University of Hyogo),Hideki Ueno(University of Hyogo)

キーワード: キャビテーションプラズマ,液中プラズマ,キャビテーション気泡,繰り返し周波数,低温プラズマ

要約(日本語): キャビテーションプラズマは高繰り返し高電圧短パルスを印加した電極間にキャビテーション気泡を含む溶液を導くことで生成される液中低温プラズマである。キャビテーションプラズマは処理能力が高く、分散、合成、分解、殺菌などへの応用が期待されている。しかし、その気泡内での放電現象については報告が少ない。先行研究では直前に発生した放電の影響を受けることが報告されており、その影響を調査するため印加電圧パルスの繰り返し周波数を20～200 kHzまで変化させた際のプラズマ発生率を調査した。パルス繰り返し周波数が20 kHzではほとんどプラズマが発生しないが、パルス繰り返し周波数を増加させるにつれてプラズマ発生率は上昇し、200 kHzでは30 %まで上昇した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 282 Kバイト