ゾル-ゲル電気泳動堆積法によるシリカ膜を用いたアルミニウムの耐腐食性向上

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-095

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Improvement of Corrosion Resistance of Aluminum Using Silica Film by Sol-Gel Electrophoretic Deposition

著者名: 浅岡 卓哉(三重大学),坂本 竜也(三重大学),青木 裕介(三重大学)

著者名(英語): Takuya Asaoka(Mie University),Tatsuya Sakamoto(Mie University),Yusuke Aoki(Mie University)

キーワード: 電気化学インピーダンス測定,ゾル-ゲル電気泳動堆積,シリカ,耐食性

要約(日本語): 半導体集積回路の絶縁膜形成や，金属防食処理が様々な方法で試みられてきている。近年、金属基板への高品質なシリカ膜の形成技術として，コロイダルシリカを用いたゾルーゲル電気泳動堆積法が注目されている。ゾルーゲル法に調整されたコロイダルシリカによる堆積膜は硬化処理前においてゾル状であるため、低温の焼成処理でクラックが発生しにくい特徴がある。本研究ではゾルーゲル電気泳動堆積法によりAl基板上に作製したシリカ薄膜について，塩水浸漬試験を用いて，耐腐食効果の長期安定性評価を行った結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 356 Kバイト