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Co-SiNナノグラニュラー薄膜の磁気光学効果

Co-SiNナノグラニュラー薄膜の磁気光学効果

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-104

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Magneto-optical effects of Co-SiN nanogranular magnetic films

著者名: 池田 賢司(電磁材料研究所),小林 伸聖(電磁材料研究所),荒井 賢一(電磁材料研究所)

著者名(英語): Kenji Ikeda(DENJIKEN),Nobukiyo Kobayashi(DENJIKEN),Ken-Ichi Arai(DENJIKEN)

キーワード: ナノグラニュラー,磁気光学効果,ファラデー効果,磁性薄膜

要約(日本語): 我々はフッ化物系ナノグラニュラー膜に関し、磁性金属組成がおよそ30 at.%以下の領域において光透過性を示すことが確認し、Bi-YIGに対して40倍のファラデー効果を示すことを見出した。この磁気光学効果は、マトリックス界面近傍の磁性原子の磁気モーメントがエンハンスされることに起因すると考えられる。磁気光学デバイスへの応用については、フッ化物のマトリックスは屈折率が低いため、高屈折率材料が求められるデバイスへの適用は困難である。本研究では、高屈折率材料であるSi3N4をマトリックスとしたナノグラニュラー薄膜の作製を検討した。今回は、反応性スパッタによって作製したCo-SiN膜の、薄膜作製条件とファラデー効果の関係について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 294 Kバイト

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