無電解めっき法により成膜したFe-Ni軟磁性膜

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-113

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Fe-Ni soft magnetic films by electroless deposition

著者名: 田中 凌将(長崎大学),三枝 香風(長崎大学),加治 淳一(長崎大学),幸田 一輝(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Ryoma Tanaka(Nagasaki University),Kafu Mieda(Nagasaki University),Junichi Kaji(Nagasaki University),Kazuki Kouda(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 無電解めっき,軟磁性膜

要約(日本語): Fe-Ni合金は優れた軟磁気特性を有しており，センサなどの磁気デバイスに応用されている。本研究室では電解めっき法によりFe-Ni膜の成膜を行い，その磁気特性の改善を目指し多くの報告を行ってきた。しかし，電解めっき法では導電性の基板が必要になり，センサの高周波駆動を考えると，導電性の基板は除去することが望ましい。そこで外部電源を用いない無電解めっき法に着目した。本稿では，還元剤にジメチルアミンボランを用いた無電解めっき法により成膜したFe-Ni軟磁性膜の基礎特性を評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 207 Kバイト