Ga組成の異なるFe100-xGax膜における磁気特性の膜厚による変化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-116

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル：Ga組成の異なるFe_100-xGa_x膜における磁気特性の膜厚による変化

タイトル(英語): Change in Magnetic Properties of Fe_100-xGa_x Films with Film Thickness

著者名: 川辺 泰之(東北大学),宮崎 孝道(東北大学),遠藤 恭(東北大学)

著者名(英語): Yasuyuki Kawabe(Tohoku University),Takamichi Miyazaki(Tohoku University),Yasushi Endo(Tohoku University)

キーワード: Fe-Ga膜,磁気ひずみ材料,静的磁気特性,動的磁気特性

要約(日本語): Ga組成の異なるFe_100-xGa_x膜における磁気特性について検討し、その膜厚依存性について議論する。飽和磁化は、いずれのGa組成においても膜厚に関わらずほぼ一定となった。飽和磁気ひずみは、いずれのGa組成においても膜厚の増加とともに増加し、30 nm厚で極大となり、その後減少した。飽和磁気ひずみの値は、いずれのGa組成においても、膜厚によらず他のFe-Gaバルクや多結晶膜と比べて低くなっている．ダンピング定数はGa組成により膜厚に関して異なる挙動を示した。とくに、Ga組成が18.5 at.%の場合には、ダンピング定数の値はゼロ磁気ひずみ近傍でのNi-Fe合金やFe-Si合金よりも高くなることがわかった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 676 Kバイト