磁歪材料の電解めっき成膜とそのひずみセンサ応用

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-172

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Electroplating of the Magnetostrictive Material and Application for Strain Sensor

著者名: 江面 大河(東北大学),猪股 直生(東北大学),戸田 雅也(東北大学),小野 崇人(東北大学),古屋 泰文(東北大学)

著者名(英語): Taiga Ezura(Tohoku university),Naoki Inomata(Tohoku university),Masaya Toda(Tohoku university),Takahito Ono(Tohoku university),Yasufumi Furuya(Tohoku university)

キーワード: 磁歪材料,ひずみセンサ,電解めっき,ホール素子,MEMS

要約(日本語): 本研究では、磁歪材料Fe_1-xGa_xの逆磁歪効果を利用したひずみセンサを作製し評価した．磁歪材料の成膜方法として電解めっき法の条件について検討したところ、-1750mVにおいて大きな磁歪を示すx=20%の組成を持つ磁歪膜が得られることが分かった．次に、ホール素子を集積化したデバイスを作製し評価を行った．デバイスは、Siと磁歪材料によるカンチレバーとホール素子からなる．カンチレバーが変形することにより磁場が発生し、その磁場をホール素子で検出する．作製したデバイスの出力電圧を測定したところ、カンチレバーの共振周波数近傍においてピーク形状をもつ出力特性を得た．逆磁歪効果を利用した新たなひずみセンシングの可能性を示した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 576 Kバイト